装置一覧

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洗浄装置

ウェハ・石英・ガラス・サファイア・Sic など各種素材に対応
高圧断続スプレー・ニ流体スプレー・各種ブラシ・ 超音波・薬液等を組合せ、研磨後の粗洗浄から精密洗浄など、各種洗浄工程に対応します。
研究開発用の低価格・コンパクトな手動装置から量産装置まで、目的とご予算に合わてご提案致します。各種洗浄プロセスについてもご相談下さい。

1 チャンバー型スクラブ・スピン洗浄装置 [研究開発/少量生産]

1チャンバーで異物、有機物、金属汚染が取り除ける多 目的洗浄装置

【装置概要】 各種ウエハサイズ、材質に対応した両面 スクラブ洗浄と薬液処理を兼用した装置

【用途例】 膜付け前洗浄 エピ後洗浄 エッチング ポリッシュ後洗浄 剥離洗浄

Polishing_machine

キャリア(カセット)・ボックス洗浄装置

【装置概要】

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間 隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる 各種キャリア(カセット)・ボックスの洗浄 を行う装置

【用途例】 カセット(キャリア)洗浄 ボックス洗浄

cassette_cleaner

薬液スクラブ洗浄装置

[少量生産対応]

強固着物除去と金属汚染を除去する装置

【装置概要】

ディスクブラシ洗浄、ロールブラシ洗浄に 薬液洗浄を加えた少量生産対応の装置

【用途例】 膜付け前洗浄

gan_cleaner

両面スクラブ洗浄装置

[量産対応]

ワークの表裏面に触れずに表裏面と端面洗浄する装置

【装置概要】

研磨後のウエハを界面活性剤、純水スクラ ブで除去後、メガソニックシャワー、リンス、スピン乾燥の順で行う枚葉洗浄装置

【用途例】 研磨後洗浄

Double-sided_Brush_cleaner

ダイレクトパルスクリーナー

[高圧断続スプレー]

強固着物除去と金属汚染を除去する装置

【装置概要】

10MPaの高圧水の断続スプレーユニット。1秒間に最大30回のON/OFF制御が可能。連続流と比較して約1/3の水で繰り返しパーティクルに衝撃を加えます。

【用途例】 研磨後洗浄

DP-Gun

スペーサ・粒子 散布装置

[微粒子・ナノ粒子対応]

摩擦帯電を応用したオリジナルのドライ散布装置

液晶パネルや調光ガラスのプロセスに対応した乾式スペーサ散布装置。スペーサ以外の粒子や、1μ以下のナノ粒子の散布などもご相談ください。

【装置概要】

固定式ノズル・帯電フィードバック・高電圧制御による高効率スペーサ散布装置。

研究開発向けの手動タイプ卓上散布装置から、G8.5等の大型ガラス基板に対応した量産ライン向け全自動スペーサ散布装置まで対応。

【用途例】 各種 微粒子の分散・ナノ粒子の散布・スペーサ散布

sprayer

静電気除去装置 Line Ionizer

[線状対面方式のイオナイザー]

ガラス管封入式のオリジナルのラインイオナイザー

弊社のイオナイザーは独自の線状対面電極により、安定した除電性能を維持します。構造及び出力の特性上、 異物の付着にも強いため、除電性能が低下しにくく、長期間に渡り、 切れ目の無い強力な除電を行います。周波数、電圧等の出力調整が可能なため、環境に合わせた調整・運用が可能です。

【装置概要】

電極をガラス管に封入したオリジナルのラインイオナイザー

周波数・電圧の調整機構により使用環境に合わせた調整が可能です。

【用途例】 液晶・半導体・フィルム関係の各種工程

ionizer

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